Technologie vakuové přípravy vrstev a nanostruktur - NBCM238

• Anglický název: Technology of vacuum based fabrication of thin films and nanostructures
• Zajišťuje: Katedra makromolekulární fyziky (32-KMF)
• Fakulta: Matematicko-fyzikální fakulta
• Platnost: od 2019
• Semestr: letní
• E-Kredity: 5
• Rozsah, examinace: letní s.:1/3, Z+Zk [HT]
• Počet míst: neomezen
• Minimální obsazenost: neomezen
• 4EU+: ne
• Virtuální mobilita / počet míst pro virtuální mobilitu: ne
• Stav předmětu: vyučován
• Jazyk výuky: čeština
• Způsob výuky: prezenční
• Způsob výuky: prezenční
• Garant: doc. Mgr. Jan Hanuš, Ph.D.; RNDr. Pavel Solař, Ph.D.

Anotace

Poslední úprava: Mgr. Hana Kudrnová (26.01.2018)

Studenti se po teoretickém úvodu seznámí během práce v laboratoři s obsluhou automatizované vakuové depoziční aparatury. Naučí se samostatně připravovat a charakterizovat tenké organické či anorganické vrstvy a nanočástice a seznámí se se základními metodami jejich charakterizace z hlediska fyzikálně-chemických vlastností. Značná pozornost bude věnována zejména různým metodám měření tloušťky (in-situ i ex-situ) a optických vlastností připravovaných materiálů. Předmět je zaměřen na získání praktických dovedností při práci v laboratoři tenkých vrstev.

Literatura

Poslední úprava: Mgr. Hana Kudrnová (26.01.2018)

[1] H. Biederman: Plasma Polymer Films. Imperial College Press, London 2004

[2] M. Vůjtek, R. Kubínek, M. Mašláň: Nanoskopie, Univ. Palackého Olomouc 2012

[3] H. Fujiwara: Spectroscopic Ellipsometry: Principles and Applications, John Wiley & Sons, 2007.

[4] O.Kylián, A.Choukourov, H.Biederman: Nanostructured plasma polymers, Thin Solid Films

Volume 548 (2013) 1-17

[5] Y. Huttel: Gas-Phase Synthesis of Nanoparticles, Wiley-VCH, Weinheim 2017

Sylabus

Poslední úprava: Mgr. Hana Kudrnová (26.01.2018)

1) Úvod do vakuové technologie a jejího využití pro přípravu tenkých vrstev.

2) Seznámení se s pojmy napařování, magnetronové naprašování, plazmová polymerace.

3) Příprava anorganických a organických tenkých vrstev a nanočástic pomocí plynového agregačního zdroje.

4) Měření tlouštěk a optických vlastností tenkých vrstev pomocí spektroskopické elipsometrie

5) Zkoumání morfologie povrchů pomocí AFM a SEM