Studium struktury epitaxního systému CeO2/Cu(111) metodou RHEED

• Název práce v češtině: Studium struktury epitaxního systému CeO₂/Cu(111) metodou RHEED
• Název v anglickém jazyce: Structural study of CeO₂/Cu(111) epitaxial system by RHEED
• Akademický rok vypsání: 2007/2008
• Typ práce: bakalářská práce
• Jazyk práce: čeština
• Ústav: Katedra fyziky povrchů a plazmatu (32-KFPP)
• Vedoucí / školitel: prof. RNDr. Karel Mašek, Ph.D.
• Řešitel: skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd.
• Datum přihlášení: 02.11.2007
• Datum zadání: 02.11.2007
• Datum a čas obhajoby: 23.06.2008 00:00
• Datum odevzdání elektronické podoby: 23.06.2008
• Datum proběhlé obhajoby: 23.06.2008
• Oponenti: RNDr. Kateřina Veltruská, CSc.
• Konzultanti: prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc.

Zásady pro vypracování

1) seznámení se s laboratorním systémem RHEED
2) vytvoření programového vybavení pro snímání difrakčních obrazců pomocí grafického programovacího systému Labview (volitelné)
3) měření struktury a růstu CeO₂ / Cu(111)
4) vyhodnocení naměřených dat

Seznam odborné literatury

1) L. Eckertová, L. Frank, Metody analýzy povrchů – Elektronová mikroskopie a difrakce, Academia, Praha, 1996
2) L. Eckertová a kol., Metody analýzy povrchů Elektronová spektroskopie, Academia, Praha 1990
3) A. Trovarelli, Catalysis by Ceria and Related Materials, Imperial College Press, ISBN 1-86094-299-7
4) Články v odborných časopisech podle dohody s vedoucím práce

Předběžná náplň práce

Fyzikálně-chemické vlastnosti povrchů pevných látek nabývají v posledním desetiletí na stále větším významu v mnoha technologických a výzkumných oborech. Zkoumání povrchů pevných látek se provádí tzv. metodami analýzy povrchů. K nim patří i metoda RHEED (Reflection High-Energy Electron Diffraction – difrakce elektronů s vysokou energií na odraz) založená na difrakci elektronů. RHEED patří k nejpoužívanějším metodám kontroly růstu tenkých vrstev v laboratoři i průmyslu. Difrakční obrazec je ze stínítka snímán do počítače pomocí vysoce citlivé CCD kamery. Metoda poskytuje informace o struktuře a morfologii povrchu zkoumaného vzorku v atomárním měřítku.

Bakalářská práce se zabývá měřením, zpracováním a interpretací difrakčních obrazců získaných na monokrystalickém vzorku před a po depozici oxidové vrstvy. Vyhodnocení difrakčních obrazců z epitaxních vrstev vede k popisu krystalické struktury těchto vrstev a jejich epitaxních parametrů. Obrazové informace se zpracovávají v programovém systému Labview a Imaq Vision firmy National Instruments. Chemické složení a chemický stav zkoumaných povrchů bude analyzován metodami fotoelektronové a Augerovy spektroskopie (XPS a AES). Smyslem práce je pochopení procesů, které probíhají v počátečních fázích růstu vrstvy.

Cílem bakalářské práce je detailní studium růstu oxidu Ce na povrchu monokrystalu mědi Cu(111). Jedná se o velmi moderní a dosud málo prozkoumaný systém mající řadu praktických aplikací zejména v oblasti plynových senzorů a katalyzátorů.