Příprava a charakterizace tenkých epitaxních vrstev oxidu wolframu
Název práce v češtině: | Příprava a charakterizace tenkých epitaxních vrstev oxidu wolframu |
---|---|
Název v anglickém jazyce: | Preparation and characterization of epitaxial tungsten oxide thin films |
Klíčová slova: | oxid wolframu, modelový systém, epitaxe |
Klíčová slova anglicky: | tungsten oxide, model system, epitaxy |
Akademický rok vypsání: | 2011/2012 |
Typ práce: | diplomová práce |
Jazyk práce: | čeština |
Ústav: | Katedra fyziky povrchů a plazmatu (32-KFPP) |
Vedoucí / školitel: | prof. RNDr. Karel Mašek, Ph.D. |
Řešitel: | skrytý - zadáno a potvrzeno stud. odd. |
Datum přihlášení: | 01.11.2011 |
Datum zadání: | 03.11.2011 |
Datum potvrzení stud. oddělením: | 15.12.2011 |
Datum a čas obhajoby: | 17.05.2013 00:00 |
Datum odevzdání elektronické podoby: | 26.04.2013 |
Datum odevzdání tištěné podoby: | 12.04.2013 |
Datum proběhlé obhajoby: | 17.05.2013 |
Oponenti: | Mgr. Kamil Olejník, Ph.D. |
Konzultanti: | prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc. |
Zásady pro vypracování |
1) Seznámení se s laboratorním systémem RHEED a XPS-AES,
2) příprava tenkých epitaxních vrstev WOx na různých površích kovových monokrystalů, 3) nalezení optimálních podmínek přípravy vrstev, 4) měření krystalografické a elektronické struktury vrstev metodami RHEED, XPS, AES a interakce kov-oxid, 5) měření povrchové morfologie vrstev, 6) vyhodnocení a interpretace naměřených dat. |
Seznam odborné literatury |
1) L. Eckertová, L. Frank, Metody analýzy povrchů – Elektronová mikroskopie a difrakce, Academia, Praha, 1996.
2) L. Eckertová a kol., Metody analýzy povrchů, Elektronová spektroskopie, Academia, Praha 1990. 3) Ayahiko Ichimiya and Philips I. Cohen, Reflection High Energy Diffraction, Cambridge University Press, Cambridge 2004. 4) W. Braun, Applied RHEED, Springer – Verlag Berlin Heidelberg 1999. 5) D. Briggs and M.P.Seah, Practical Surface Analysis, sekond edition, John Wiley & Sons, 1990. 6) Články v odborných časopisech podle dohody s vedoucím práce. |
Předběžná náplň práce |
Oxid wolframu má zajímavé fyzikálně chemické vlastnosti z hlediska celé řady průmyslových aplikací. Již řadu se užívá pro výrobu plynových senzorů zejména pro detekci plynů obsahujících dusík. Z tohoto důvodu je neustále předmětem širokého výzkumu. Cílem této diplomové práce je nalézt optimální podmínky (podložka a její povrchová orientace, teplota během přípravy, rychlost depozice …) pro přípravu tenkých epitaxních vrstev oxidu wolframu a charakterizace jejich fyzikálně chemických vlastností. Jako podložky budou využity monokrystaly kovů (např. Pd a Pt) s různými povrchovými orientacemi. Vrstvy budou připravovány napařováním v ultravakuových podmínkách. Jejich krystalografická struktura a chemický stav budou studovány metodou reflexní difrakce rychlých elektronů (RHEED) a různými elektronovými spektroskopiemi (AES – spektroskopie Augerových elektronů, XPS – fotoelektronová spektroskopie). Povrchová morfologie vrstev zkoumána pomocí mikroskopu atomárních sil (AFM) popřípadě řádkovací elektronovou mikroskopií.
Navrhovaná diplomová práce úzce souvisí s projekty řešenými ve skupině povrchů KFPP a lze na ni navázat v následném doktorandském studiu. V průběhu studia se předpokládá i účast na měření na Synchrotronu Elettra v Terstu. http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/dipl-abs.php?id=658 |
Předběžná náplň práce v anglickém jazyce |
http://physics.mff.cuni.cz/kfpp/php/dipl-abs.php?id=658 |